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uv光解除臭設備是半導體和空氣的催化劑

來源:未知 ?? 作者: admin; 發布日期:2018-09-19 11:36

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  uv光解除臭設備是在可見光催化作用下發生的,uv光解除臭設備是基于半導體光氧和空氣作為催化劑,基于光能,有機物質降解成二氧化碳和水和其他無毒無害的成分。公司以人造紫外線為能源,配合我公司經過***殊處理活性***強,***有效的納米二氧化鈦催化劑反應,經過處理后的廢氣治理能達到較***的凈化效果。2。在半導體uv光解除臭設備反應,通過紫外線照射納米二氧化鈦催化劑,納米二氧化鈦催化劑吸收光能量產生電子和空穴的飛躍,進一步結合后產生的電子-空穴對,和廢氣表面吸附的水(H2O)和氧氣(O2)反應生成氧化很活波的羥基基(OH)和超氧離子基(O2 - 0)。

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