光氧催化設備廢氣處理工藝概述
光氧催化設備廢氣處理工藝概述——光氧催化設備是繼固體、液體和氣體之后的***四種物質狀態。當施加的電壓達到氣體的放電電壓時，氣體被分解，產生包括電子、各種離子、原子和自由基在內的混合物。
在放電過程中，雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個系統出現低溫狀態，故稱為光氧催化設備。光氧催化設備降解污染物是使用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣污染物的影響,因此,污染物的分子在很短的時間內攻擊分化,并攻擊不同的后續影響達到污染物降解的目的。
光氧催化設備富含較高的材料,如高能電子、離子、自由基和激發態分子,如排氣污染物的物質這些能量攻擊高,污染在很短的時間內攻擊分化,并攻擊隨后的響應達到污染物的意圖。
與傳統的光氧催化設備電暈放電技術相比，DBD等離子體放電量為電暈放電的50倍，放電密度為電暈放電的130倍。因此，傳統的光氧催化設備技術只能用于室內空氣異味管理，與其他光氧催化設備技術相比，DBD等離子體技術用于工業過程廢氣處理。
